La JX300FP es una herramienta CMP líder de 12 pulgadas, desarrollada con base en la avanzada tecnología CMP de ATW JX, en respuesta a las demandas más vanguardistas de la industria. Este equipo cuenta con unidades de pulido de alto rendimiento e integra tecnología de limpieza combinada avanzada, que ofrece resultados de limpieza superiores. Permite la planarización global de sustratos a nivel nanométrico, cumpliendo con los requisitos de las tecnologías de proceso más avanzadas.