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Productos semiconductores
Horno de crecimiento de cristales de SiC
 
El horno de crecimiento de cristales de SiC permite que, en una atmósfera específica, los materiales de carburo de silicio experimenten transporte en fase de vapor, reacciones químicas, etc., y en última instancia, crezcan lingotes de silicio monocristalino de SiC de alta calidad en una semilla.
  • Tamaño

    15 cm/20 cm

  • Convexidad durante el crecimiento del cristal

    1-3 mm

Sistema de control inteligente de alta precisión, servicio personalizado.
Control multizona de alta precisión
Aproveche el sistema de control inteligente para lograr un control centralizado remoto
Alto rendimiento, alta estabilidad y utilización óptima del espacio
Soluciones personalizadas disponibles

El horno de crecimiento de cristales para materiales de silicio es una pieza crítica del equipo para el crecimiento de lingotes de mono-Si de alta pureza y alta calidad. Normalmente utiliza el método Czochralski para crecer lingotes de mono-Si. Funde los materiales de silicio a través del calentador de grafito en una atmósfera inerte y luego sumerge la semilla en la masa fundida de silicio. Al controlar con precisión la velocidad de elevación/rotación de la semilla y la velocidad de elevación/rotación del crisol, los átomos de silicio se disponen de forma ordenada, capa por capa, sobre la semilla, creciendo así lingotes de mono-Si sin dislocaciones. Cuenta con ventajas técnicas como un diseño de gran diámetro, un control preciso de la temperatura y un control automático; el diámetro de los lingotes cultivados varía de Φ360 a Φ600 mm, con una longitud mínima de 2 m.